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氧化钇等离子体束刻蚀(干刻蚀)

时间:2021-09-10 04:09:08 点击:741次

会生成大量的Cl基、F基等活性自由基。它们对半导体器件进行刻蚀时,对设备的其他的零部件包括铝合金,陶瓷结构件等的内表面产生腐蚀作用,这种强烈的侵蚀产生了大量的颗粒不仅导致需要频繁的维护生产设备,严重时甚至会导致刻蚀工艺腔的失效和器件的损坏。

Y2O3是一种化学性质和热学性质非常稳定的材料,熔点远超2400℃,能在强腐蚀环境下保持稳定,耐等离子的轰击可极大延长部件使用寿命并减少刻蚀腔内微粒。

主流方案是喷涂高纯度Y2O3涂层保护刻蚀腔室及其它关键部件。


等离子喷涂氧化钇涂层对刻蚀腔体及模组件的防腐随刻蚀量成正比例增长,当前市场规模约5亿RMB。

以Fujimi、信越、GSI等为代表的日本材料企业长期垄断相关氧化钇市场。


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